媒体



Mar 31, 2015:
Picosun’s ALD technology protects pumps

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Mar 23, 2015:
Picosun and NCTU launch industrial ALD facility in Taiwan

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Feb 17, 2015:
Picosun expands its production capacity

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客户评价

"We are impressed with the excellent customer support provided by Picosun, the excellent quality of our PICOSUN™ ALD system, and its simple, clear, intuitive, and secure software. We have installed our PICOSUN™ system at our university and we would recommend it to any academic institute carrying out cutting-edge research in nanotechnology and related areas. This is the smallest PICOSUN™ system. For production purposes one should consider a bigger PICOSUN™ system with options for automated operation."

Prof. Peter Lemmens and Dr. Andrey Bakin, University of Technology in Braunschweig, Germany

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ALD 应用

  • 电子

    电子
  • 传感器

    传感器
  • 半导体

    半导体
  • MEMS

    MEMS
  • 微芯片

    微芯片
  • 防腐蚀

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  • 抗变色

    抗变色
  • 能源存储

    能源存储
  • 装饰涂层

    装饰涂层
  • 照明

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  • 光学器件和显示屏

    光学器件和显示屏
  • 纳米科技

    纳米科技
  • 太阳能光伏

    太阳能光伏

PICOSUN R系列
专为研发而设计 

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PICOSUN™ R-系列原子层沉积(ALD)系统专门针对研究、生产开发和试生产进行优化。用途广泛的反应器设计使 2-8’’(50-200 毫米)的晶片、三维物体,以及多孔基片上均可进行沉积。 

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PICOSUN P系列
ALD工业化生产系统的新标准

p-sarja

PICOSUN™ P-系列原子层沉积(ALD)系统是完全按照ALD原理的需求而专利设计,可提供极高的工艺速度,极低的拥有成本,为ALD工业化生产工具设定了一个崭新的标准。 

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ALD 材料示例*

氧化物 Al2O3, AlxTiyOz, Gd2O3, HfO2, In2O3, MgO, Sb2O3, SiO2, SrTiOx, Ta2O5, TiO2, Y2O3, ZnO, ZnO:Al, ZrO2
氮化物 AlN, TiAlCN, TiN, TaNx
碳化物 TiC
硫化物 Gd2O2S, In2S3, InxZnyS, ZnS
氟化物  CaF2, MgF2
金属 Ag, Au, Cu, Ir, Pd, Pt, Ru
   
表面自组装单分子层
 
聚合物及有机-无机混合材料 
 

* 该列表未包含所有材料,更多信息请直接咨询 Picosun。

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