新闻稿、新闻和事件




Jul 3, 2014: Novel, industrial metallization solutions from Picosun

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Jun 16, 2014: PICOSUN™ P-300B ALD production tool is a success

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May 28, 2014: New industrial ALD processes from Picosun

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什么叫原子层沉积(ALD)技术?

原子层沉积(ALD)是一项先进的薄膜沉积技术,被广泛应用于制造超薄的、高度均匀和保形性的薄膜。

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PICOSUN R系列
专为研发而设计 

R-series nosto small

PICOSUN™ R-系列原子层沉积(ALD)系统专门针对研究、生产开发和试生产进行优化。用途广泛的反应器设计使 2-8’’(50-200 毫米)的晶片、三维物体,以及多孔基片上均可进行沉积。 

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PICOSUN P系列
ALD工业化生产系统的新标准

P-series nosto small

PICOSUN™ P-系列原子层沉积(ALD)系统是完全按照ALD原理的需求而专利设计,可提供极高的工艺速度,极低的拥有成本,为ALD工业化生产工具设定了一个崭新的标准。 

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