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Picosun News, Summer 2015 now online!

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Jul 2, 2015:
Picosun and Carleton strike gold with ALD

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Jun 23, 2015:
Picosun ALD breaks through in medical technology

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May 22, 2015:
Picosun wins market in IC, MEMS, and LED manufacturing

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客户评价

The good performance of Picosun’s ALD technology is well-known and trusted. We learned about Picosun through our industrial co-workers in LED manufacturing and the high technological quality and great achievements of the PICOSUN™ ALD systems motivated us to select one ourselves.

Picosun’s ALD equipment have demonstrated remarkable and reliable performance for electronic devices and optoelectronics production which is why we greatly recommend the semiconductor industries (for example Si-based FinFET, CMOS, LED, and display manufacturers) to consider PICOSUN™ ALD systems.

Professor Hao-Chung Kuo, National Chiao Tung University (NCTU), Taiwan

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ALD 应用

  • 抗变色

    抗变色
  • 电子

    电子
  • 能源存储

    能源存储
  • 装饰涂层

    装饰涂层
  • 照明

    照明
  • 光学器件和显示屏

    光学器件和显示屏
  • 纳米科技

    纳米科技
  • MEMS

    MEMS
  • 微芯片

    微芯片
  • 传感器

    传感器
  • 半导体

    半导体

PICOSUN R系列
专为研发而设计 

r-sarja

PICOSUN™ R-系列原子层沉积(ALD)系统专门针对研究、生产开发和试生产进行优化。用途广泛的反应器设计使 2-8’’(50-200 毫米)的晶片、三维物体,以及多孔基片上均可进行沉积。 

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PICOSUN P系列
ALD工业化生产系统的新标准

Picosun 300 mm ALD cluster tool with robot loader and FOUP station 1 SMALL

PICOSUN™ P-系列原子层沉积(ALD)系统是完全按照ALD原理的需求而专利设计,可提供极高的工艺速度,极低的拥有成本,为ALD工业化生产工具设定了一个崭新的标准。 

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ALD 材料示例*

氧化物 Al2O3, AlxTiyOz, Gd2O3, HfO2, In2O3, MgO, Sb2O3, SiO2, SrTiOx, Ta2O5, TiO2, Y2O3, ZnO, ZnO:Al, ZrO2
氮化物 AlN, TiAlCN, TiN, TaNx
碳化物 TiC
硫化物 Gd2O2S, In2S3, InxZnyS, ZnS
氟化物  CaF2, MgF2
金属 Ag, Au, Cu, Ir, Pd, Pt, Ru
   
表面自组装单分子层
 
聚合物及有机-无机混合材料 
 

* 该列表未包含所有材料,更多信息请直接咨询 Picosun。

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