ALD - Your solution,
our passion!
Picosun is an international equipment manufacturer with
a world-wide sales and service organization.
Automatic cassette-to-cassette loading production system up to 300 mm
Pioniere auf dem Gebiet ALD seit 1974
ALD - Your solution,
Neuigkeiten & Eregnisse
Jun 10, 2013
ESPOO, Finland, 10th June, 2013 – Picosun Oy, leading Atomic Layer Deposition (ALD) equipment manufacturer, reports excellent process results for copper diffusion barrier deposition. ALD materials for copper diffusion barriers were investigated in the project ESiP (Efficient Silicon Multi-Chip System-in-Package Integration – Reliability, Failure Analysis and Test), running from May 2010 to June 2013.Erfahren Sie mehr
Apr 9, 2013
ESPOO, Finland, 9th April, 2013 – Picosun Oy, leading Atomic Layer Deposition (ALD) equipment manufacturer, reports that its PICOPLATFORM™ 300 ALD cluster tool has been selected by a key customer in Asia for new memory applications. The 300 mm cluster design is based on the company’s long-term top product, the fully automated, multifunctional PICOPLATFORM™ ALD deposition unit for parallel, simultaneous execution of several different processes for high-k and metal/metal nitride films.Erfahren Sie mehr
What is ALD? |
PICOSUN R-SERIE -
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PICOSUN P-SERIE -
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Atomic Layer Deposition (ALD) is an advanced thin film coating method which is used to fabricate ultrathin, highly uniform and conformal material layers for several applications. |
Die PICOSUN™ Atomlagenabscheidungssysteme (Atomic Layer Deposition; ALD) der R-Serie sind für die Forschung, Produktentwicklung und die Produktion von Vorserien optimiert. Das vielseitige Reaktordesign ermöglicht die Abscheidung auf Wafers von bis 50 bis zu 200 mm, dreidimensionale Objekte und poröse Substrate. |
PICOSUN™ Atomlagenabscheidungsreaktoren (ALD-Reaktoren) der P-Serie setzen einen neuen Standard für ALD Produktionssysteme mit sehr schnellen Prozesszeiten und sehr niedriger “cost of ownership” anhand dem patentierten Design das speziell auf den Anforderungen von ALD basiert. |
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