Neuigkeiten & Ereignisse

Feb 17, 2014

Picosun Brochure 2014 now online!

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Mär 31, 2014: Picosun and Bosch team up in ALD

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Feb 26, 2014: Industrial robotics boost Picosun’s production ALD systems

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Jan 22, 2014: Picosun develops ALD for graphene-based displays and electronics

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What is ALD?

 

Atomic Layer Deposition (ALD) is an advanced thin film coating method which is used to fabricate ultrathin, highly uniform and conformal material layers for several applications.

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PICOSUN R-SERIE -
ANKURBELN DER FORSCHUNG UND ENTWICKLUNG (F&E)

R-series nosto small

Die PICOSUN™ Atomlagenabscheidungssysteme (Atomic Layer Deposition; ALD) der R-Serie sind für die Forschung, Produktentwicklung und die Produktion von Vorserien optimiert. Das vielseitige Reaktordesign ermöglicht die Abscheidung auf Wafers von bis 50 bis zu 200 mm, dreidimensionale Objekte und poröse Substrate.

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PICOSUN P-SERIE -
DEFINIEREN DER ALD-FERTIGUNG

 

P-series nosto small

PICOSUN™ Atomlagenabscheidungsreaktoren (ALD-Reaktoren) der P-Serie setzen einen neuen Standard für ALD Produktionssysteme mit sehr schnellen Prozesszeiten und sehr niedriger “cost of ownership” anhand dem patentierten Design das speziell auf den Anforderungen von ALD basiert.

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