Media

Nov 26, 2014:
Picosun ALD protects printed electronics

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Okt 21, 2014:
Picosun ALD improves inkjets

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Sep 30, 2014:
Breakthrough in ALD-graphene by Picosun technology

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Customer testimonials

Before purchasing our ALD system we carefully investigated several alternatives. In the PICOSUN™ system we found many advantages over the others. For making good devices, good thermal stability and very uniform deposition are essential. We also love the handy operation system.

Picosun provides us high quality products, friendly and appropriate advice, and good after sales support. We are very satisfied with our ALD tool and we recommend PICOSUN™ systems to all research institutes to manufacture high quality ALD films and to companies to utilize the good research results.

Dr. Yuichi Harada, NTT Basic Research Laboratories, Atsugi, Japan

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ALD APPLICATIONS

  • Electronics

    Electronics
  • Sensors

    Sensors
  • Semiconductors

    Semiconductors
  • MEMS

    MEMS
  • Microchips

    Microchips
  • Corrosion protection

    Corrosion protection
  • Antitarnishing

    Antitarnishing
  • Energy storage

    Energy storage
  • Decorative coatings

    Decorative coatings
  • Lighting

    Lighting
  • Optics and displays

    Optics and displays
  • Nanotechnology

    Nanotechnology
  • Solar photovoltaics

    Solar photovoltaics

PICOSUN R-SERIE -
ANKURBELN DER FORSCHUNG UND ENTWICKLUNG (F&E)

r-sarja

Die PICOSUN™ Atomlagenabscheidungssysteme (Atomic Layer Deposition; ALD) der R-Serie sind für die Forschung, Produktentwicklung und die Produktion von Vorserien optimiert. Das vielseitige Reaktordesign ermöglicht die Abscheidung auf Wafers von bis 50 bis zu 200 mm (2 - 8 "), dreidimensionale Objekte und poröse Substrate.

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PICOSUN P-SERIE -
DEFINIEREN DER ALD-FERTIGUNG

p-sarja

PICOSUN™ Atomlagenabscheidungsreaktoren (ALD-Reaktoren) der P-Serie setzen einen neuen Standard für ALD Produktionssysteme mit sehr schnellen Prozesszeiten und sehr niedriger “cost of ownership” anhand dem patentierten Design das speziell auf den Anforderungen von ALD basiert.

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EXAMPLES OF ALD MATERIALS*

Oxides
Al2O3, AlxTiyOz, Gd2O3, HfO2, In2O3, MgO, Sb2O3, SiO2, SrTiOx, Ta2O5, TiO2, Y2O3, ZnO, ZnO:Al, ZrO2
Nitrides
AlN, TiAlCN, TiN, TaNx
Carbides
TiC
Sulfides
Gd2O2S, In2S3, InxZnyS, ZnS
Fluorides   
CaF2, MgF2
Metals
Ag, Au, Cu, Ir, Pd, Pt, Ru
   
Self-assembled monolayers (SAMs) for growth inhibition
 
Polymers and inorganic-organic hybrid materials
 

* The list in non-inclusive - for more detailed information please contact Picosun directly.

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