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Picosun News, issue Winter 2015 now online!
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dic 15, 2014:
Picosun enables ALD production on powders

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nov 26, 2014:
Picosun ALD protects printed electronics

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oct 21, 2014:
Picosun ALD improves inkjets

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Customer testimonials

Before purchasing our ALD system we carefully investigated several alternatives. In the PICOSUN™ system we found many advantages over the others. For making good devices, good thermal stability and very uniform deposition are essential. We also love the handy operation system.

Picosun provides us high quality products, friendly and appropriate advice, and good after sales support. We are very satisfied with our ALD tool and we recommend PICOSUN™ systems to all research institutes to manufacture high quality ALD films and to companies to utilize the good research results.

Dr. Yuichi Harada, NTT Basic Research Laboratories, Atsugi, Japan

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ALD APPLICATIONS

  • Electronics

    Electronics
  • Sensors

    Sensors
  • Semiconductors

    Semiconductors
  • MEMS

    MEMS
  • Microchips

    Microchips
  • Corrosion protection

    Corrosion protection
  • Antitarnishing

    Antitarnishing
  • Energy storage

    Energy storage
  • Decorative coatings

    Decorative coatings
  • Lighting

    Lighting
  • Optics and displays

    Optics and displays
  • Nanotechnology

    Nanotechnology
  • Solar photovoltaics

    Solar photovoltaics

SERIE R DE PICOSUN-
PROMOCIÓN DE I+D

r-sarja

Los sistemas de deposición de capas atómicas (ALD) de la serie R de PICOSUNTM han sido mejorados para la investigación, el desarrollo de productos y la producción piloto. El versátil diseño del reactor permite la deposición en obleas de 2-8'' (50-200 mm), objetos tridimensionales y sustratos porosos.

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SERIES P DE PICOSUN-
DEFINICIÓNDE LA PRODUCCIÓN DE ALD

p-sarja

Los sistemas de deposición de capas atómicas (ALD) de la serie P de PICOSUNTM establecen un nuevo estándar para las herramientas de producción de ALD, al proporcionar un proceso extremadamente rápido y un coste muy bajo de propiedad con un diseño patentado que se basa únicamente en los requisitos del método ALD.

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EXAMPLES OF ALD MATERIALS*

Oxides
Al2O3, AlxTiyOz, Gd2O3, HfO2, In2O3, MgO, Sb2O3, SiO2, SrTiOx, Ta2O5, TiO2, Y2O3, ZnO, ZnO:Al, ZrO2
Nitrides
AlN, TiAlCN, TiN, TaNx
Carbides
TiC
Sulfides
Gd2O2S, In2S3, InxZnyS, ZnS
Fluorides   
CaF2, MgF2
Metals
Ag, Au, Cu, Ir, Pd, Pt, Ru
   
Self-assembled monolayers (SAMs) for growth inhibition
 
Polymers and inorganic-organic hybrid materials
 

* The list in non-inclusive - for more detailed information please contact Picosun directly.

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