Media

oct. 21, 2014:
Picosun ALD improves inkjets

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sept. 30, 2014:
Breakthrough in ALD-graphene by Picosun technology

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août 25, 2014:
Picosun joins forces with IMEC for novel, industrial ALD applications

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Archive

Customer testimonials

Before purchasing our ALD system we carefully investigated several alternatives. In the PICOSUN™ system we found many advantages over the others. For making good devices, good thermal stability and very uniform deposition are essential. We also love the handy operation system.

Picosun provides us high quality products, friendly and appropriate advice, and good after sales support. We are very satisfied with our ALD tool and we recommend PICOSUN™ systems to all research institutes to manufacture high quality ALD films and to companies to utilize the good research results.

Dr. Yuichi Harada, NTT Basic Research Laboratories, Atsugi, Japan

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ALD APPLICATIONS

  • Electronics

    Electronics
  • Sensors

    Sensors
  • Semiconductors

    Semiconductors
  • MEMS

    MEMS
  • Microchips

    Microchips
  • Corrosion protection

    Corrosion protection
  • Antitarnishing

    Antitarnishing
  • Energy storage

    Energy storage
  • Decorative coatings

    Decorative coatings
  • Lighting

    Lighting
  • Optics and displays

    Optics and displays
  • Nanotechnology

    Nanotechnology
  • Solar photovoltaics

    Solar photovoltaics

SÉRIE R PICOSUN -
MOTEUR DE R&D

r-sarja

Les systèmes de dépôt de couches atomiques (ALD) série R PICOSUN™ sont optimisés pour la recherche, le développement de produits et la production pilote. Ce type de réacteur polyvalent permet de déposer des couches sur des tranches de 50–200 mm (2–8"), des objets tridimensionnels et des substrats poreux. 

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SÉRIE P PICOSUN -
DÉFINITION DE LA PRODUCTION ALD

p-sarja

Les systèmes de dépôt de couches atomiques (ALD) série P PICOSUN™ établissent une nouvelle référence en matière d’outils de production ALD, avec un procédé extrêmement rapide et un coût de possession très bas grâce au modèle breveté conçu exclusivement en fonction des exigences de la méthode ALD. 

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EXAMPLES OF ALD MATERIALS*

Oxides
Al2O3, AlxTiyOz, Gd2O3, HfO2, In2O3, MgO, Sb2O3, SiO2, SrTiOx, Ta2O5, TiO2, Y2O3, ZnO, ZnO:Al, ZrO2
Nitrides
AlN, TiAlCN, TiN, TaNx
Carbides
TiC
Sulfides
Gd2O2S, In2S3, InxZnyS, ZnS
Fluorides   
CaF2, MgF2
Metals
Ag, Au, Cu, Ir, Pd, Pt, Ru
   
Self-assembled monolayers (SAMs) for growth inhibition
 
Polymers and inorganic-organic hybrid materials
 

* The list in non-inclusive - for more detailed information please contact Picosun directly.

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