ALD - Your solution,
our passion!

Picosun является международным производителем оборудования с офисами продаж и организацией обслуживания по всему миру.

О НАС ГАЛЛЕРЕЯ ALD

Automatic cassette-to-cassette loading production system up to 300 mm

Присоединяйтесь к нашему списку рассылки – и вы будете знать первыми!
Вакансии

Новости и события

Apr 9, 2013

ESPOO, Finland, 9th April, 2013 – Picosun Oy, leading Atomic Layer Deposition (ALD) equipment manufacturer, reports that its PICOPLATFORM™ 300 ALD cluster tool has been selected by a key customer in Asia for new memory applications. The 300 mm cluster design is based on the company’s long-term top product, the fully automated, multifunctional PICOPLATFORM™ ALD deposition unit for parallel, simultaneous execution of several different processes for high-k and metal/metal nitride films.
Подробнее

Mar 5, 2013

ESPOO, Finland, 5th March, 2013 – Picosun Oy, leading Atomic Layer Deposition (ALD) equipment manufacturer, and VTT Technical Research Centre of Finland report notable progress in continuous ALD technology. The water vapour and oxygen transmission rates measured from polymer films coated with thin ALD Al2O3 layer in Picosun’s new roll-to-roll ALD deposition chamber were on a par with the values obtained with similar coating in a batch ALD process, thus proving Picosun’s design for continuous ALD solution the frontrunner in producing barrier films on flexible substrates – one of the most sought-after ALD applications of today.
Подробнее

Что такое технология ALD?

  

PICOSUN™ серии R

  

PICOSUN™ серии P
Etusivun_nosto_01s 		 
Etusivun_nosto_02s 		 
Etusivun_nosto_03s

Технология атомно-слоевого осаждения (Atomic Layer Deposition, ALD) является наиболее перспективным методом нанесения тонких плёнок, который используется для напыления ультратонких, высокооднородных и конформных слоев материалов для различных применений.

 

Системы PICOSUN™ серии R, основанные на технологии атомно-слоевого осаждения (ALD), специально разработаны для использования в научных и прикладных исследованиях и опытном производстве. Универсальная конструкция реактора позволяет наносить слои на полупроводниковые пластины размером 2-8’’ (50-200 мм), объемные объекты и пористые подложки.

 

Системы PICOSUN™ серии P на основе технологии атомно-слоевого осаждения (ALD) представляют собой быстродействующие и надежные реакторы компактного размера, предназначенные для использования в производственных целях. Конструкция реактора оптимизирована для эффективной обработки пакетов полупроводниковых пластин (по 25 шт.) размером 4-6’’. Для достижения наилучших эксплуатационных характеристик оборудование ALD может быть оснащено роботизированным манипулятором.

Подробнее   Подробнее   Подробнее