Media

Ноя 26, 2014:
Picosun ALD protects printed electronics

Подробнее

Окт 21, 2014:
Picosun ALD improves inkjets

Подробнее

Сен 30, 2014:
Breakthrough in ALD-graphene by Picosun technology

Подробнее

Архив

Customer testimonials

Before purchasing our ALD system we carefully investigated several alternatives. In the PICOSUN™ system we found many advantages over the others. For making good devices, good thermal stability and very uniform deposition are essential. We also love the handy operation system.

Picosun provides us high quality products, friendly and appropriate advice, and good after sales support. We are very satisfied with our ALD tool and we recommend PICOSUN™ systems to all research institutes to manufacture high quality ALD films and to companies to utilize the good research results.

Dr. Yuichi Harada, NTT Basic Research Laboratories, Atsugi, Japan

Read more 

ALD APPLICATIONS

  • Electronics

    Electronics
  • Sensors

    Sensors
  • Semiconductors

    Semiconductors
  • MEMS

    MEMS
  • Microchips

    Microchips
  • Corrosion protection

    Corrosion protection
  • Antitarnishing

    Antitarnishing
  • Energy storage

    Energy storage
  • Decorative coatings

    Decorative coatings
  • Lighting

    Lighting
  • Optics and displays

    Optics and displays
  • Nanotechnology

    Nanotechnology
  • Solar photovoltaics

    Solar photovoltaics

PICOSUN™ серии R

r-sarja

Системы PICOSUN™ серии R, основанные на технологии атомно-слоевого осаждения (ALD), специально разработаны для использования в научных и прикладных исследованиях и опытном производстве. Универсальная конструкция реактора позволяет наносить слои на полупроводниковые пластины размером 2-8’’ (50-200 мм), объемные объекты и пористые подложки.

Подробнее

PICOSUN™ серии P

p-sarja

Системы PICOSUN™ серии P на основе технологии атомно-слоевого осаждения (ALD) представляют собой быстродействующие и надежные реакторы компактного размера, предназначенные для использования в производственных целях. Конструкция реактора оптимизирована для эффективной обработки пакетов полупроводниковых пластин размером 4-18’’ (100 - 450 мм). Для достижения наилучших эксплуатационных характеристик оборудование ALD может быть оснащено роботизированным манипулятором.

Подробнее

EXAMPLES OF ALD MATERIALS*

Oxides
Al2O3, AlxTiyOz, Gd2O3, HfO2, In2O3, MgO, Sb2O3, SiO2, SrTiOx, Ta2O5, TiO2, Y2O3, ZnO, ZnO:Al, ZrO2
Nitrides
AlN, TiAlCN, TiN, TaNx
Carbides
TiC
Sulfides
Gd2O2S, In2S3, InxZnyS, ZnS
Fluorides   
CaF2, MgF2
Metals
Ag, Au, Cu, Ir, Pd, Pt, Ru
   
Self-assembled monolayers (SAMs) for growth inhibition
 
Polymers and inorganic-organic hybrid materials
 

* The list in non-inclusive - for more detailed information please contact Picosun directly.

Request a coating demo